期刊级别:CSCD,高T2
主管单位:中国科学院
主办单位:中国科学院上海光学精密机械研究所;中国光学学会
国内刊号:31-2078/O4
国际刊号:2095-4719
主管:中国科学院
主办:中国科学院上海光学精密机械研究所;中国光学学会
出版地区:上海市
发行周期:双月
创刊时间:2013
邮发代号:4-868
主管:中国科学院
📈复合影响因子:2.391
📈综合影响因子:2.271
发文刊期:无线电电子学
📌类别:物理
审稿难度:
High Power Laser Science and Engineering期刊年发文量::2016年46篇,2017年30篇,2018年65篇,2019年67篇,2020年44篇,2021年66篇,2022年45篇,2023年92篇,2024年97篇,2025年76篇
期刊历年基金文献和总文献占比:2016年60.87%,2017年73.33%,2018年84.62%,2019年88.06%,2020年90.91%,2021年83.33%,2022年95.56%,2023年86.96%,2024年88.66%,2025年93.42%
杂志文献学科分布:物理学, 无线电电子学, 核科学技术, 自动化技术, 材料科学, 化学, 天文学, 无机化工, 计算机软件及计算机应用, 仪器仪表工业, 有机化工, 电信技术, 工业通用技术及设备, 地球物理学, 电力工业, 人物传记, 力学, 生物医学工程, 地质学, 海洋学
杂志关键词分布:
High Power Laser Science and Engineering杂志影响因子走势: